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新世伟洛克 ALD7 超高纯阀使半导体制造商能够提高芯片产量

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世伟洛克是流体系统产品、组件及相关服务的领先供应商,最近宣布推出世伟洛克ALD7 超高纯(UHP)隔膜阀 — 该产品可为半导体制造商提供必要的一致性和长寿命,以提高芯片产量。与世伟洛克目前顶级的 ALD6 阀门相比,ALD7 提供更好的流量一致性、流通能力和执行速度。它还提供了必要的高温性能,使芯片制造商能够克服当前制造必要的高温性能。

ALD7 在与现有阀门相同的情况下,阀门可以集成到新设备或原设备中 1.5-inch (38.1mm)安装下提供更高的流通能力(高达 0.7 Cv),帮助制造商满足全球对先进技术芯片的强劲需求。ALD7 阀门通过比其前身 ALD6 执行速度更快、更一致,数亿次 ALD(原子层沉积)在生产周期中提供精确的进料。执行机构的开关响应时间可低于 5ms。执行机构可以浸入 150°C (302°F)阀体的额定温度为环境 200°C (392°F),使阀门能更好地支持需要高温输送的低蒸汽压前驱体。这为制造商提供了增加产量和良率所需的控制。

ALD7 阀门设计紧凑,集成了热隔离器,使系统设计师能够利用芯片制造设备反应腔附近的有限空间。此阀门对 ALD 工艺中使用的腐蚀性气体也有很强的抗腐蚀能力,其阀体由世伟洛克专有的超高纯 316L VIM-VAR 由不锈钢组成。因此,半导体设备制造商可以依靠它 ALD7 阀门在易变工艺条件下提供一致的性能,为客户提高产能而不增加运营成本。

“自从近 20 年前开发了行业内第一款符合应用的产品ALD 自从阀门以来,我们一直与半导体客户合作,以更好地了解我们的超高纯阀门在芯片制造商继续缩小工艺节点和增加芯片生产所需的性能水平,世伟洛克产品经理 Ben Olechnowicz 解释说。这使我们不断追求创新思维,开发阀门,更快地实施,应用于更极端的条件,并具有更高的流量系数,以满足原子层过程的持续要求。我们将 ALD7 设计成一个可靠的全天候生产阀,可以满足所有这些要求,为我们的客户提供必要的性能一致性,以便在这个行业中保持领先地位,似乎总是在变化,并对制造商提出更多的要求。”

ALD7 目前可提供高流量 C模块化表面安装配置或配备卡套管对焊和世伟洛克 VCR直接配置表面密封接头。高温电子位置传感器、光学位置传感器或电磁先导阀也可作为附加元件提供。


 

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