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台积电计划关闭部分EUV光刻机:先进工艺过剩:

EUV光刻机是半导体制造的核心设备,只有ASML公司只能生产,单台售价约10亿元,以前三星、台积电等公司都要抢着买,但今年半导体形势发生了变化,EUV光刻机反而因为耗电太多,台积电计划关闭省电。

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据产业链消息人士手机晶片专家介绍,由于先进工艺产能利用率开始下降,评估后下降时间将持续一段时间,台积电计划将从年底开始EUV 关闭设备以节省EUV设备耗电量巨大。

据了解,目前台积电约80台EUV主要用于7的光刻机nm、5nm以下先进技术将于今年9月批量生产3个nm工艺,都需要EUV光刻机,但随之而来PC、对手机、显卡等产品的需求下降,先进工艺生产的芯片必然会受到影响。

苹果今年的iPhone 14 Pro系列的A16处理器并不着急nm工艺,还在用4nm此外,苹果还因为3nm能效问题取消了第一代3nm芯片生产计划。

相比之前的DUV光刻机,EUV光刻机需要使用高能激光器,光线会多次折射,造成巨大损失。早期效率只有0.02%。现在大规模生产可以达到2%的效率,但也意味着大部分电力都要消耗。

EUV光刻机刻机一天需要3万度左右的电,一年耗电约1000万度,是一只完整的电老虎。


 

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